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關(guān)鍵詞：納米二氧化鈦光催化涂層、超高壓納米均質(zhì)機(jī)、二氧化鈦漿料制備

納米二氧化鈦憑借優(yōu)異的光催化活性，在自清潔涂層、抗菌涂層、空氣凈化涂層等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，是功能性環(huán)保涂層的核心材料之一。但納米二氧化鈦自身高表面能帶來的團(tuán)聚問題，以及傳統(tǒng)分散工藝的固有局限，一直是制約光催化涂層性能的關(guān)鍵難題。TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)憑借高效的物理分散機(jī)制，能夠從根源上改善納米二氧化鈦的分散狀態(tài)，優(yōu)化涂層微觀結(jié)構(gòu)與應(yīng)用性能，為高品質(zhì)光催化涂層的研發(fā)與規(guī)模化生產(chǎn)提供了可靠的技術(shù)支撐。 

一、納米二氧化鈦光催化涂層的分散痛點(diǎn)

納米二氧化鈦顆粒粒徑小、比表面積大，在漿料配制過程中極易自發(fā)形成緊密的團(tuán)聚體，這些團(tuán)聚體無(wú)法通過常規(guī)攪拌、研磨等方式打散，不僅會(huì)大幅降低材料的有效比表面積與光催化活性位點(diǎn)數(shù)量，還會(huì)造成涂層成膜后厚薄不均、表面粗糙，同時(shí)團(tuán)聚顆粒還會(huì)加劇漿料沉降分層，影響產(chǎn)品儲(chǔ)存穩(wěn)定性與批次一致性，即便搭配分散助劑，也難以實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)效穩(wěn)定的單顆粒分散狀態(tài)，最終導(dǎo)致光催化降解效率、涂層附著力與耐候性均無(wú)法達(dá)到理想水平，限制了高性能光催化涂層的實(shí)際應(yīng)用效果。

二、TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)的工作原理

TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)依靠強(qiáng)大壓力驅(qū)動(dòng)和分散物料。物料在超高壓力下，經(jīng)過分散單元的狹小縫隙，瞬間產(chǎn)生強(qiáng)大剪切力，將大顆粒物料裁剪成微小碎片。同時(shí)，物料高速流動(dòng)相互撞擊，還會(huì)形成空穴效應(yīng)等協(xié)同作用，在不引入額外雜質(zhì)、不改變材料晶型的前提下，高效破碎納米二氧化鈦團(tuán)聚體，讓顆粒實(shí)現(xiàn)均勻細(xì)化與穩(wěn)定分散，配合耐磨的核心閥件，既能滿足實(shí)驗(yàn)室精細(xì)處理需求，也可適配工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)分散工藝的穩(wěn)定可控。

該設(shè)備不堵不漏，配備10寸工業(yè)觸控屏實(shí)時(shí)監(jiān)控壓力曲線，壓力可達(dá)3000bar。 

圖1 均質(zhì)機(jī)原理圖

三、應(yīng)用案例

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